Найти книгу: "Магнетрон"

Роман о потере человечеством контроля над техническим прогрессом. О том, как тонка граница, отделяющая людей от хаоса внутри. Книга содержит нецензурную брань.

Книга представляет собой подробное справочное руководство по физическим основам, технологическим особенностям и практическому применению процесса реактивного магнетронного нанесения тонких пленок сложного состава, представляющих собой химические соединения металлов или полупроводников с азотом, кислородом или углеродом. Этот процесс уже широко распространен в электронной промышленности и в других отраслях, где используется нанесение покрытий. В книге обобщено современное состояние этого процесса, приведена обширная библиография. Представлено подробное описание физических процессов, протекающих во время реактивного магнетронного нанесения, и следующих из них технологических особенностей магнетронного нанесения. Особое внимание уделено способам управления процессами реактивного магнетронного нанесения тонких плёнок, обеспечивающих стабильность и воспроизводимость как самого процесса нанесения, так и свойств получаемых пленок. Описаны изменения состава и структуры получаемых пленок и их зависимость от параметров процесса нанесения. Приведена широкая номенклатура получаемых этим способом пленок сложного состава. Рассмотрены модификации этого процесса, различающиеся используемыми источниками питания: постоянного тока, среднечастотных импульсов, импульсов большой мощности и ВЧ. Даны практические рекомендации по освоению известных и разработке новых процессов получения пленок сложного состава методом реактивного магнетронного распыления. Книга рассчитана на специалистов, занимающихся исследованием, разработкой и изготовлением различных изделий электронной техники и нанотехнологии, совершенствованием технологии их производства и изготовлением специализированного оборудования. Она также будет полезна в качестве учебного пособия для студентов старших курсов и аспирантов соответствующих специализаций.

Рассмотрены устройство, принцип работы и основные характеристики магнетронных распылительных систем (МРС). Изложены физические процессы и особенности работы МРС. Перечислены основные типы и конструктивные схемы МРС. Дан пример конструкции МРС с электромагнитной системой. Для студентов старших курсов, обучающихся по специальности «Плазменные энергетические установки», а также для аспирантов и инженеров, занимающихся разработкой и конструированием МРС.

В книге представлены результаты теоретических и экспериментальных исследований релятивистских магнетронов, проведенных в России и за рубежом, в том числе и автором монографии, за период с 1976 по 2012 гг. Описаны конструкции приборов, принцип действия, отличия от классических аналогов. Подробно обсуждаются проблемы генерации СВЧ-импульсов сверхбольшой мощности, получаемой в релятивистских магнетронах при использовании в качестве источников питания сильноточных электронных и линейных индукционных ускорителей. Приведены основные параметры экспериментальных установок, режимов работы, характеристики СВЧ-излучения. Рассматриваются нетрадиционные возможности управления колебательным процессом в релятивистских магнетронах, его спектром и потоками энергии за счет введения в резонансную систему управляющих внешних связей. Книга представляет интерес для научных сотрудников и инженеров, занимающихся исследованиями в области СВЧ-электроники и ускорительной техники. Издание осуществлено при поддержке Российского фонда фундаментальных исследований по проекту 12-08-07101

Практикум включает в себя материал, необходимый для подготовки и проведения лабораторной работы по выращиванию кристаллических пленок методом магнетронного напыления по курсу «Выращивание кристаллов». Изложены основы теории магнетронного напыления, дано описание аппаратуры, методик напыления и оценки качества полученных кристаллических пленок. Цель лабораторного практикума – приобретение студентами теоретических знаний и практических навыков по напылению монокристаллических пленок с применением метода магнетронного распыления в постоянном и высокочастотном электромагнитном поле. В процессе выполнения лабораторной работы студенты осваивают теорию и метод выращивания кристаллических пленок путем магнетронного напыления, овладевают навыками выбора материала и подготовки подложки для эпитаксиальной кристаллизации, осваивают методику работы и напыляют пленки на установке магнетронного напыления SunPla-40, исследуют структуру и проводят анализ влияния технологических факторов на структуру и физические свойства выращенных кристаллических пленок. Лабораторный практикум предназначен для студентов, обучающихся по направлению подготовки магистров 22.04.01 «Материаловедение и технология материалов» по программе «Кристаллы квантовой и оптической электроники».